Japan Display Inc. e Idemitsu Kosan Co. Ltd. han desarrollado con éxito un innovador semiconductor de óxido policristalino, Poly-OS, para su uso en una amplia variedad de pantallas, incluyendo dispositivos wearables, smartphones, dispositivos metaversos como la RV, ordenadores portátiles y televisores de gran pantalla. Al integrar el material semiconductor de óxido policristalino de nueva creación de Idemitsu Kosan y la tecnología backplane2 patentada por JDI, el nuevo semiconductor Poly-OS contribuye de forma significativa a mejorar el rendimiento de las pantallas al lograr tanto una alta movilidad como una baja corriente de fuga3 en las líneas de producción en masa Gen 6.

El Poly-OS también puede desplegarse en líneas Gen 8 de gran tamaño y superiores, reduciendo significativamente los costes de fabricación de las pantallas. Tanto JDI como Idemitsu Kosan se han comprometido a promover activamente esta innovadora tecnología a nivel mundial. Idemitsu Kosan comenzó el desarrollo de un material semiconductor de óxido policristalino IGO (óxido de indio y galio) para pantallas planas como parte de su negocio de materiales electrónicos en 2006.

El IGO tiene una alta movilidad equivalente a la del polisilicio de baja temperatura (LTPS)4, que no podía lograrse con los semiconductores de óxido existentes, junto con unas características estables de transistor de película fina (TFT)5 que pueden aplicarse a las líneas de sustrato Gen 8 y mayores. Tanto JDI como Idemitsu Kosan están apoyando el desarrollo continuo de la tecnología Poly-OS para que pueda aplicarse ampliamente en diversas aplicaciones en la industria mundial de pantallas. JDI e Idemitsu Kosan se comprometen a contribuir a una sociedad con bajas emisiones de carbono a través de la mejora del rendimiento de las pantallas, la evolución de la industria mundial de pantallas y un menor consumo de energía de las mismas.