Intel dijo el jueves que se había convertido en la primera empresa en montar una de las nuevas herramientas litográficas "High NA EUV" del grupo tecnológico holandés ASML, una parte importante del empeño del fabricante estadounidense de chips informáticos por superar a sus rivales.

Intel ha sido la primera empresa en comprar una de las máquinas de 350 millones de euros (373 millones de dólares) fabricadas por el principal proveedor de equipos para chips, ASML. Se espera que las herramientas conduzcan a nuevas generaciones de chips más pequeños y rápidos, aunque existen riesgos financieros y de ingeniería.

"Acordamos el precio cuando nos comprometimos con las herramientas y no lo habríamos hecho si no estuviéramos seguros de que había usos rentables para ellas", dijo el director de litografía de Intel, Mark Phillips, en una reunión informativa con periodistas.

ASML, la mayor empresa tecnológica de Europa, domina el mercado de los sistemas de litografía, máquinas que utilizan haces de luz para ayudar a crear los circuitos de los chips.

La litografía es una de las muchas tecnologías que utilizan los fabricantes de chips para mejorarlos, pero es un factor limitante de lo pequeñas que pueden ser las características de un chip: más pequeño significa más rápido y más eficiente energéticamente.

Se espera que las herramientas High NA ayuden a reducir los diseños de los chips hasta en dos tercios, pero los fabricantes de chips deben sopesar ese beneficio frente a un mayor coste y a la posibilidad de que la tecnología más antigua sea más fiable y lo suficientemente buena.

EL ERROR DE INTEL

La determinación de Intel de ser la primera en adoptar High NA no es casual.

Ayudó a desarrollar la tecnología EUV, llamada así por las longitudes de onda de luz "ultravioleta extrema" que utiliza. Pero empezó a utilizar el primer producto EUV de ASML más tarde que su rival taiwanés TSMC , lo que el consejero delegado Pat Gelsinger ha reconocido que fue un gran error.

En su lugar, Intel se centró en técnicas conocidas como "multipatterning", es decir, pasar por más pasos con máquinas litográficas de menor resolución para conseguir un efecto equivalente.

"Fue entonces cuando nos metimos en problemas", dijo Phillips.

Aunque las herramientas DUV más antiguas eran más baratas, el complejo multipatterning se convirtió en un proceso demasiado lento y dio lugar a demasiados chips defectuosos, lo que ralentizó el progreso comercial de Intel.

La empresa estadounidense ha adoptado ahora la EUV de primera generación para las partes más cruciales de sus mejores chips, y Phillips dijo que espera que el paso a la EUV de alta resolución sea más suave.

"Ahora que tenemos EUV miramos hacia adelante, no queremos meternos en el mismo barco en el que tenemos que empujar (las máquinas EUV de primera generación de ASML) demasiado lejos", dijo.

Phillips afirmó que la máquina de su campus de Hillsboro (Oregón) estará "plenamente operativa a finales de este año".

Intel tiene previsto utilizar la máquina, que tiene el tamaño de un autobús de dos pisos, en el desarrollo de su generación 14A de chips en 2025, con una producción temprana prevista para 2026 y una producción comercial completa en 2027.

ASML dijo junto a las ganancias de esta semana que había iniciado el proceso de envío de un segundo sistema High NA a un cliente no identificado, probablemente TSMC o la surcoreana Samsung.

El envío y la instalación de las enormes herramientas pueden tardar hasta seis meses, lo que da ventaja a Intel.

(1 dólar = 0,9381 euros) (Reportaje de Toby Sterling; Edición de Mark Potter)