ASML Holding N.V. (ASML) e Intel Corporation (INTC) han anunciado la última fase de su larga colaboración para avanzar en la tecnología de litografía de semiconductores. Intel ha emitido su primera orden de compra a ASML para la entrega del primer sistema TWINSCAN EXE:5200 de la industria, un sistema de producción de alto volumen en el ultravioleta extremo (EUV) con una alta apertura numérica y una productividad de más de 200 obleas por hora, como parte del marco de colaboración a largo plazo de las dos empresas en el ámbito de la alta tecnología. Intel anunció en su evento Accelerated de julio que tiene previsto desplegar la primera tecnología High-NA para hacer posible su hoja de ruta de innovaciones en transistores. Intel fue la primera en comprar el anterior sistema TWINSCAN EXE:5000 en 2018, y con la nueva compra anunciada, la colaboración continúa el camino para la fabricación de producción de Intels con High-NA EUV a partir de 2025. La plataforma EXE es un paso evolutivo en la tecnología EUV e incluye un novedoso diseño óptico y etapas de retícula y oblea significativamente más rápidas. Los sistemas TWINSCAN EXE:5000 y EXE:5200 ofrecen una apertura numérica de 0,55, lo que supone un aumento de la precisión con respecto a las máquinas EUV anteriores, con una lente de apertura numérica de 0,33, para permitir un patronaje de mayor resolución para características de transistores aún más pequeñas. La apertura numérica del sistema, combinada con la longitud de onda utilizada, determina la característica imprimible más pequeña.