Ichigo Inc. creó una filial de su propiedad, Ichigo Si Co. Ltd. (Ichigo Si). Ltd. (Ichigo Si), para llevar a cabo la investigación y el desarrollo ("I+D") sobre la producción y la aplicación del dióxido de silicio (SiO2), una sílice de origen vegetal. Objetivo de la creación: Como parte de la misión de contribuir a la sociedad a través de actividades empresariales, Ichigo ha establecido Ichigo Si para llevar a cabo la I + D en la producción, aplicación y suministro de dióxido de silicio, que ha ganado recientemente el reconocimiento por sus posibles aplicaciones en una amplia gama de campos, incluyendo la medicina, la electrónica y la electricidad. La I+D de Ichigo Si pretende contribuir a un futuro más sólido de Japón y del mundo entero mediante la creación de empresas que puedan suministrar nuevos recursos industriales a un mundo que se enfrenta a recursos limitados. Fecha de creación: 17 de enero de 2022. Capital: 20 millones de yenes.