Lam Research Corp. presentó la primera herramienta de deposición por láser pulsado (PLD) orientada a la producción del mundo para hacer posible la próxima generación de micrófonos y filtros de radiofrecuencia (RF) basados en MEMS. El sistema Pulsus?

PLD de Lam proporciona películas de nitruro de aluminio y escandio (AlScN) con el mayor contenido de escandio disponible. Esto allana el camino para dispositivos avanzados de consumo y automoción con mayor rendimiento, capacidad y funcionalidad. Pulsus se distribuye ya a fabricantes selectos de dispositivos especializados.

La incorporación de Pulsus PLD a la cartera de Lam amplía aún más la completa gama de productos de deposición, grabado y limpieza de una sola oblea centrados en tecnologías especializadas y demuestra la continua innovación de Lam en este sector. Las películas de vanguardia impulsan los dispositivos de alto rendimiento: Los filtros de RF desempeñan un papel fundamental en el rendimiento de 5G, WiFi 6 y WiFi 6E al aumentar el número de bandas que puede manejar una red, al tiempo que mejoran la experiencia de cada usuario. Los micrófonos MEMS se valoran por su elevada relación señal/ruido, que les permite captar con precisión incluso los sonidos amortiguados, algo esencial para las funciones de control de voz y cancelación de ruido en los dispositivos con 5G.

Pulsus utiliza una tecnología de vanguardia para depositar películas de alta calidad que optimizan los filtros RF y los micrófonos MEMS. Cuanto mayor sea el nivel de escandio en la película, mejor será el rendimiento de los dispositivos. Pulsus suministra películas compuestas de al menos un 40% de escandio, la mayor concentración disponible en la actualidad.

Estas películas presentan una baja pérdida dieléctrica y el doble de coeficiente piezoeléctrico que las películas pulverizadas actuales, lo que optimiza la conversión eléctrica para impulsar una mayor sensibilidad en los filtros de radiofrecuencia y un mejor rendimiento en los micrófonos MEMS. Además, la mejora de las cualidades piezoeléctricas hace factible la sustitución del titanato de circonato de plomo (PZT) por AlScN sin plomo. En el proceso PLD de Pulsus, se utiliza un pulso láser intenso para golpear un material objetivo.

El objetivo se vaporiza, creando un penacho de plasma estable y denso que se deposita en capas finas sobre una oblea. Este proceso es vital para conseguir películas uniformes de alta calidad con un control preciso del grosor y la tensión. Pulsus representa la primera vez que se han utilizado láseres para la deposición de películas finas en la fabricación de grandes volúmenes.

Las capacidades PLD de Pulsus, respaldadas por el diseño de la plataforma 2300 de Lam, garantizan una uniformidad y calidad excepcionales de la película a una fracción del coste por oblea frente a los métodos de deposición convencionales. Esta eficiencia puede ayudar a los fabricantes de chips a aumentar los rendimientos de fabricación y acelerar sus hojas de ruta de productos. Además de AlScN, Pulsus puede depositar una amplia gama de materiales complejos y multielementos que no pueden aplicarse por otros métodos.

Lam está explorando nuevos materiales para satisfacer las demandas del mercado de tecnología especializada para aplicaciones como AR/VR y computación cuántica.