El gigante de la fabricación de herramientas para chips ASML dijo el viernes que estaba preparando la producción de su nueva máquina "High NA EUV" de 350 millones de dólares, un dispositivo del tamaño de un autobús de dos pisos central en su apuesta por mantener su liderazgo en un mercado de 125.000 millones de dólares.

La máquina, que se expuso por primera vez el viernes en la sede holandesa de la mayor empresa tecnológica europea por valor de mercado, está destinada a Intel y otros fabricantes de los semiconductores de gama más alta.

ASML dijo que esperaba enviar "un número" de ellas este año, y que aún quedaba trabajo por hacer en cuanto a personalización e instalación.

"Seguimos haciendo ingeniería y desarrollo y queda mucho trabajo por hacer para calibrarlo y asegurarnos de que encaja en el sistema de fabricación", dijo Monique Mols, portavoz de ASML. "También hay una pronunciada curva de aprendizaje para nosotros y nuestros clientes".

ASML es el único fabricante de una tecnología clave -la fotolitografía ultravioleta extrema (EUV)- necesaria para fabricar los chips más avanzados.

High NA EUV es la próxima generación de esa tecnología. Pero los analistas dijeron que era una incógnita cuántos clientes están preparados para pasarse a los dispositivos de alto coste.

"Aunque es posible que algunos fabricantes de chips la introduzcan antes en un intento de hacerse con el liderazgo tecnológico, la mayoría no la adoptará hasta que tenga sentido desde el punto de vista económico", afirmó Jeff Koch, de Semianalysis.

Los clientes podrían optar por esperar y exprimir más las herramientas existentes. Los propios cálculos de Koch sugieren que sólo sería rentable pasar de la tecnología más antigua en torno a 2030-2031.

"Esto significa que es probable que ASML disponga de un exceso de capacidad de High-NA entre la rampa de su fábrica en 2027-28 y la plena adopción en la lógica de vanguardia unos años más tarde", añadió.

El consejero delegado de ASML, Peter Wennink, dijo a Reuters en enero que los analistas podrían estar subestimando la tecnología.

"Todo lo que estamos viendo actualmente en la discusión con nuestros clientes es que la Alta AN es más barata", dijo en una entrevista.

Greet Storms, responsable de la gestión de productos High NA de ASML, afirmó el viernes que se avecina un punto de inflexión en torno a 2026-2027.

"Este es el punto en el que los clientes lo llevarán a la producción en volumen", dijo a los periodistas.

Intel ya ha recibido la entrega de un dispositivo piloto, y dijo que planea iniciar la producción el próximo año, sin dar detalles sobre la escala de la operación.

TSMC y Samsung han dicho que tienen intención de utilizar la herramienta, pero no han especificado cuándo.

ASML afirma que ha recibido entre 10 y 20 pedidos hasta la fecha -incluidos dispositivos piloto para los especialistas en memorias SK Hynix y Micron- y que está creando capacidad para poder entregar 20 al año de aquí a 2028.

Ninguno de ellos irá a China, el segundo mayor mercado de ASML el año pasado, ya que Estados Unidos intenta frenar las exportaciones de tecnología punta allí y obstaculizar las ambiciones de Pekín en materia de semiconductores.

Sin embargo, el mes pasado, la empresa, considerada un barómetro de la industria de los chips,

informó a

una sólida cartera de pedidos que calmó las preocupaciones de los inversores de que los límites a China perjudicaran sus resultados.

Una rápida adopción de la herramienta impulsaría las ventas y los márgenes de ASML y podría ampliar su posición dominante en el mercado de los sistemas de litografía, máquinas que utilizan la luz para ayudar a trazar patrones en obleas de silicio que acabarán convirtiéndose en los circuitos de los chips informáticos.

Afirma que la herramienta High NA permitirá a los fabricantes de chips reducir el tamaño de las características más pequeñas de sus chips hasta en un 40%, lo que permitirá casi triplicar la densidad de los transistores.

ASML compite con Nikon y Canon de Japón en la fabricación de las máquinas litográficas utilizadas para fabricar las generaciones relativamente más antiguas de chips.

Pero a finales de la década de 2010, la firma holandesa se convirtió en la primera y única empresa en comercializar una herramienta de litografía que utiliza EUV, o luz de longitud de onda de 13,5 nanómetros.

Tanto la máquina original como la High NA crean la luz EUV vaporizando gotas de estaño con pulsos gemelos de láser 50.000 veces por segundo.

ASML afirma que el mayor cambio de la máquina High NA es un sistema óptico más grande formado por espejos de forma irregular, fabricados por Carl Zeiss, pulidos tan lisos que deben mantenerse en el vacío. Recogen y enfocan más luz que sus predecesoras - High NA significa alta apertura numérica - que es lo que, según la empresa, conduce a una mejor resolución. (1 dólar = 0,9269 euros) (Reportaje de Toby Sterling; Edición de Andrew Heavens)