Park Systems ha anunciado Park NX-Mask, el equipo de reparación de fotomáscaras de nueva generación más eficaz, seguro y eficiente. Park NX-Mask ofrece soluciones optimizadas que admiten vainas dobles para el manejo de máscaras EUV en la producción en línea. Proporciona una solución todo en uno -desde la revisión automática de los defectos hasta la reparación de los mismos y la verificación de la reparación- acelerando el rendimiento con una eficacia de reparación sin precedentes.

Park NX-Mask repara incluso las fotomáscaras más desafiantes eliminando los defectos y las partículas extrañas con una precisión nanométrica y de nivel angstrom en la colocación de los bordes. Lo hace sin alterar el patrón de la superficie reflectante ni las deposiciones espurias, incluidas las manchas y los elementos implantados. La revisión automática de defectos viene de serie en Park NX-Mask, una característica muy útil para las retículas de las máscaras EUV, para obtener un alto rendimiento, una alta resolución y sin los riesgos destructivos que suponen otros métodos, como el haz de luz electrónico y el láser.

Además, Park NX-Mask ofrece una nanometrología AFM totalmente automatizada para la rugosidad de la superficie y la altura del paso del patrón. Lo hace con una precisión vertical sub-angstrom en modo de escaneo sin contacto.